金融界2024年1月30日消息，据国家知识产权局公告，西部金属材料股份有限公司申请一项名为“一种高导电PEM电解槽扩散层及其制备方法“，公开号CN117468031A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本发明属于PEM电解槽扩散层技术领域，公开一种高导电PEM电解槽扩散层及其制备方法，所述高导电PEM电解槽扩散层通过等离子渗氮技术，在钛多孔骨架基材表面上形成高导电膜层，获得高导电PEM电解槽扩散层；高导电膜层包覆于钛多孔骨架基材的表面上，高导电膜层的物相中包括TiN、Ti(O,N)、Ti。