金融界2024年2月8日消息,据国家知识产权局公告,北京大学申请一项名为“一种铁电存储器的制备方法“,公开号CN117529114A,申请日期为2023年11月。
专利摘要显示,本发明提供了一种铁电存储器的制备方法,属于半导体存储器技术领域。本发明将铁电存储器的制备集成进入传统CMOS后道工序中,通过调整原有的通孔工艺,利用形成通孔的填充层隔离铁电存储器与金属互连线,解决了铁电存储器图形化带来的刻蚀污染问题。
文 / 夏洛特 来源:第三方供稿
金融界2024年2月8日消息,据国家知识产权局公告,北京大学申请一项名为“一种铁电存储器的制备方法“,公开号CN117529114A,申请日期为2023年11月。
专利摘要显示,本发明提供了一种铁电存储器的制备方法,属于半导体存储器技术领域。本发明将铁电存储器的制备集成进入传统CMOS后道工序中,通过调整原有的通孔工艺,利用形成通孔的填充层隔离铁电存储器与金属互连线,解决了铁电存储器图形化带来的刻蚀污染问题。
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