华海清科申请化学机械抛光装置和抛光方法专利,实现在线修整抛光垫表面

2024/02/12 05:19来源:第三方供稿

金融界2024年2月8日消息,据国家知识产权局公告,华海清科股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光装置和抛光方法“,公开号CN117506712A,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法,所述化学机械抛光装置包括:抛光盘;承载头,用于装载待抛光晶圆;供液组件,与承载头一一对应,其包括供液臂,供液臂配置有多个供液管,以朝向抛光盘上方的抛光垫供给抛光液;在线修整组件,集成于供液组件并位于供液臂侧方,以在线修整抛光垫表面。

编辑:夏洛特