生益科技申请电路器件专利,实现磁性能、填充工艺性同时最大化
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生益科技申请电路器件专利,实现磁性能、填充工艺性同时最大化

文 / 夏洛特 来源:第三方供稿

金融界2024年2月8日消息,据国家知识产权局公告,广东生益科技股份有限公司申请一项名为“一种电路器件及其制备方法和应用“,公开号CN117524631A,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本发明提供一种电路器件及其制备方法和应用,所述电路器件包括磁性层、铜线圈和两个电极,所述磁性层从上至下依次包括磁性层T、磁性层M、磁性层B,所述铜线圈包埋于所述磁性层M中,所述两个电极分别贯穿整个磁性层T以及部分磁性层M,并分别与铜线圈的首端、尾端相连;所述磁性层T、磁性层M、磁性层B的制备原料均包括树脂和磁性填料;以树脂和磁性填料的总重量为100%计,所述磁性层M中磁性填料的含量为80%‑93%,所述磁性层T和磁性层B中磁性填料的含量各自独立地为95%‑97%。本发明可在极小程度损伤磁性能的基础上,满足高度为60‑80μm的线圈的填充工艺性,实现磁性能、填充工艺性同时最大化。

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