光刻机(胶)概念10日主力净流出7.05亿元,张江高科、西陇科学居前
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光刻机(胶)概念10日主力净流出7.05亿元,张江高科、西陇科学居前

文 / Lisa 来源:第三方供稿

4月10日,光刻机(胶)概念下跌3.36%,今日主力资金流出7.05亿元,概念股6只上涨,63只下跌。

主力资金净流出居前的分别为张江高科(6995.58万元)、西陇科学(6859.76万元)、普利特(4444.66万元)、容大感光(3846.58万元)、强力新材(3568.17万元)。

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