金融界2024年5月2日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“检查极紫外掩模的设备和方法及制造极紫外掩模的方法“，授权公告号CN110658690B，申请日期为2019年2月。
专利摘要显示，提供了在高光效率下高速检查极紫外(EUV)掩模的方法和设备，以及一种制造EUV掩模的方法，其中，在制造EUV掩模的方法中包括检查EUV掩模的方法。用于检查EUV掩模的设备包括：光源，被配置为产生并输出光；线形波带板，被配置为将来自光源的光转换成第一线形光；狭缝板，被配置为通过从第一线形光中去除高级次衍射光分量来输出第二线形光；工作台，用于在其上定位EUV掩模；以及探测器，被配置为响应于第二线形光被照射到定位在工作台上的EUV掩模上并从EUV掩模反射来检测从EUV掩模反射的光。