今日半导体设备板块爆发,拓荆科技领涨,多股跟涨印证景气
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今日半导体设备板块爆发,拓荆科技领涨,多股跟涨印证景气

文 / 第三方供稿 来源:第三方供稿

今日A股半导体设备板块迎来短线强势拉升行情,成为科技成长赛道的核心引擎。板块核心标的拓荆科技表现尤为亮眼,凭借强劲的资金承接力度涨幅超8%;中科飞测、京仪装备、芯源微、中微公司、微导纳米等企业同步走高,进一步放大板块赚钱效应。此次上涨主要是叠加AI算力需求爆发、政策支持加码及国产替代加速等多重利好共振,市场对半导体设备行业的成长性预期持续升温。

工信部新政落地,国产化目标与资金双重护航:据抖音财经资讯复盘内容(2025年12月10日)披露,工信部最新发布《促进半导体产业高质量发展的若干措施》,明确2025年前实现关键设备国产化率突破70%的目标,同时提出建立1000亿元产业投资基金,并对研发投入超营收15%的企业给予“三免三减半”所得税优惠。以中微公司为例,其2023年研发投入占比达18%,按政策测算2025年可减免税额约15亿元,直接增厚企业利润。

AI算力驱动行业增长,打破传统周期规律:Omdia于2025年12月12日发布报告指出,AI正推动半导体市场实现前所未有的增长,预计将带动行业连续六年增长,打破传统周期性规律。数据中心服务器已成为半导体营收核心驱动力,对GPU、HBM等芯片的需求激增,直接拉动刻蚀、薄膜沉积等设备需求放量。2025年第三季度全球半导体营收首次突破单季2000亿美元大关,环比增长14.5%,印证行业高景气度。

存储芯片供需缺口扩大,设备需求同步激增:瑞银预计,DRAM供应短缺将持续至2027年第一季度,DDR内存需求增长20.7%远超供应增速;NAND闪存短缺态势将延续至2026年第三季度。存储技术向3D化演进推动设备需求升级,3D NAND堆叠层数向千层迈进使刻蚀设备用量显著上升,ALD与CVD协同工艺成为主流,直接利好中微公司、拓荆科技等设备企业。

受积极影响的板块:

 半导体材料板块:设备与材料存在强协同关系,设备产能扩张直接带动上游材料需求。中信建投2025年12月9日研报指出,设备国产化率提升将同步加速靶材、高纯工艺系统等“卡脖子”材料的替代进程。

半导体零部件板块:设备核心零部件国产化是政策重点扶持方向,具备技术突破能力的企业将深度受益。中信建投研报明确,在国产替代主线推动下,零部件环节尤其是“卡脖子”领域国产化进程将显著加快。

先进封装设备板块:AI芯片技术迭代推动先进封装需求,进而拉动相关设备增长。中信建投指出,2025年下半年2.5D/3D先进封装技术有望取得突破,带动封装设备需求放量。中微公司已在先进封装领域全面布局,发布CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备,将进一步放大先进封装设备的采购需求。

风险提示:本文提及的行业信息与企业动态仅作梳理,不构成任何投资建议;企业经营及市场波动存在不确定性,请注意相关风险。

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