中国突传重大技术突破!中国实现国产DUV光刻机设备 可自研生产8奈米芯片

文/小萧2024-09-17 13:14:08来源:第三方供稿

FX168财经报社(亚太)讯 中国惊传重大技术突破,在美国、荷兰相继收紧半导体制造设备的出口管制措施之际,中国工信部近期公布一项通知显示,中国已取得重大技术突破,研发出深紫外光光刻机(DUV),可生产8奈米及以下芯片,有望减少对进口设备的依赖。

中国工业和信息化部官网上周公布“首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)”,要求地方加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。内容提及:“重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全,‘中国首台(套)重大技术装备’是指国内实现重大技术突破、拥有智慧财产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。”

该目录显示,在积体电路生产装备方面,其中一项是“氟化氩光刻机”(DUV光刻机),核心技术指标是“晶圆直径300mm,照明波长248nm,分辨率≦65nm,套刻≦8nm”,这意味着这台中国国产DUV可生产8奈米及以下芯片。

所谓的“光刻机”是将芯片设计图案投射到矽芯片上的关键设备,EUV和DUV是两种不同的曝光机技术,而EUV更为高阶、精密,可制造出更小、更强大的芯片。

由于最新的设备只有ASML才能生产,因此芯片制造机器已成为中国的珍贵商品。在人工智能(AI)软件需要最新的半导体才能达到最佳性能的时代,中国本土的机器可以帮助中国减少对西方产品的依赖,从而推动关键行业的进步。

近期,美国和荷兰相继收紧半导体制造设备的出口管制措施,包括对荷兰ASML部分中阶DUV设备的限制,中国国产DUV曝光机的研发进展受到关注。外媒引述专家指出,尽管与全球领先的荷兰ASML公司的设备相比还存在一定差距,但中国自主研发的DUV曝光机,填补了中国国内半导体设备制造的一项重要空白。

中国科技媒体“科学科技说”随后转发上述内容指出,中国国产DUV曝光机终于到来,尽管与荷兰半导体制造设备龙头ASML曝光机存在几代差距,至少已填补空白,可控可用,期待之后能研发出更先进的极紫外光曝光机(EUV)。

在中美科技战的背景下,美国及其西方盟国近年来频频出手,寻求限制中国的半导体产业发展,美国9月5日才宣布收紧制造先进半导体设备所需机器的出口管制,荷兰政府隔日就跟进,宣布扩大限制半导体制造设备出口,较先进的曝光机等设备,若要出口到欧盟以外地区,须获得荷兰的特别批准。

荷兰政府9月早些时候宣布扩大限制半导体制造设备出口后,ASML的1970i和1980i DUV设备出口中国将受到影响,两款机型约是ASML所属DUV产品线的中阶位置。有分析指,如今若中国实现国产8奈米及以下制程DUV,未来绝大多数芯片制造将能不必受制于ASML。

但截至目前为止,尚无中国官方与厂商宣布采用自制DUV光刻机,在实际生产品质与良率效果上是否真能如官方所言,还有待核实。

海外科技媒体WccfTech认为,中国新公布的国产DUV光刻机至少落后美国15年,因为荷兰ASML的客户至少在2009年就可以透过其ArF曝光机生产芯片。

(来源:WccfTech)

掌握最新全球资讯,下载FX168财经APP

相关推荐

关闭

中国突传重大技术突破!中国实现国产DUV光刻机设备 可自研生产8奈米芯片


FX168财经报社(亚太)讯 中国惊传重大技术突破,在美国、荷兰相继收紧半导体制造设备的出口管制措施之际,中国工信部近期公布一项通知显示,中国已取得重大技术突破,研发出深紫外光光刻机(DUV),可生产8奈米及以下芯片,有望减少对进...

分享至: