台积电暴跌人人踩!英特尔威胁美国“不补贴就赴欧设芯片厂” 三星曝与ASML取得关键协议

文/小萧2022-06-30 11:07:51来源:FX168

FX168财经报社(香港)讯 作为晶圆代工领头羊的台积电,30日在台股股价遇到重挫,而在地缘政局上也面临重大挑战。随着美国与台积电的关系日渐紧密,英特尔首席执行官季辛格也高调表态,威胁美国若再不提供补贴将赴欧设芯片厂,三星则曝光与ASML取得关键协议,正式向台积电下战帖。

30日亚市早盘,台股加权指数快速滑落,挫低跌破15000点吓坏投资者。台积电面临宏观经济的冲击,再加上如今先进制程也遇挑战,30日亚市开盘挫低1.73%。

英特尔首席执行官季辛格(Pat Gelsinger)在2021年2月上任后,就推出野心勃勃的IDM 2.0战略,希望通过大举投资重新夺回被台积电领先的半导体地位,其中一个重要内容就是在美国投资200亿美元建设2座新的晶圆厂。

(来源:Fortune)

然而这个在美国俄亥俄州建厂的计划目前被英特尔所延期,主要原因就是美国520亿美元的芯片补贴法案迟迟不能落实,英特尔希望获得大量补贴以降低芯片厂的成本。据报道,季辛格28日在阿斯彭思想节的小组讨论会上表示,如果美国国会不能批准芯片法案(CHIPS)中承诺的520亿美元的芯片制造政府补助,可能会在欧洲而不是美国扩大芯片生产。

季辛格在讨论会上说:“我讨厌宣布推迟”。他声称,英特尔计划先在俄亥俄州“做大”,但如果没有资金,最终会因此在欧洲投资更多。该公司已经计划,投入约350亿美元来扩大其在欧盟的生产,包括在德国新建价值180亿美元的设施。季辛格还评论说,这个行业“不是在寻求施舍”,芯片法案的补助将使美国具有“与世界其他地区相比差不多的竞争力”。

韩媒Business Korea在30日报道,三星电子和ASML就引进今年生产的极紫外光(EUV)曝光机,还有明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV曝光机达成采购协议。

(来源:Business Korea)

三星电子副董事长李在镕本月初赴欧洲之行,他在14日前往ASML位于荷兰Veldhoven的总部拜访首席执行官温尼克(Peter Wennink),两家公司签署一项协议,将引进今年生产的EUV曝光机,还有计划于明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV曝光机。

要知道,High-NA EUV曝光机设备精密度更高、设计零件更多,是延续摩尔定律的关键基础设备,推动2奈米以下制程电晶体微缩,估计每台要价4亿美元,约合5000亿韩元。

ASML今年只能生产50台EUV设备,交货周期为1年6个月,ASML有限的生产能力和较长的交货时间,正加剧各大晶圆代工厂订购High-NA EUV曝光机的竞争。

李在镕此次欧洲行就是要积极确保稳定供应,期许在先进制程上追赶台积电,抢坐市占第一宝座。但台积电在16日美国硅谷研讨会上表示,会在2024年拥有ASML次世代最先进的曝光机。

据该报道所指,High-NA EUV曝光机应用于其晶片制程的具体时间尚未确定,但考虑到交货时间,预计三星将从2024年开始实际使用这项设备。

近期一些市场观察人士呼吁韩国政府对半导体业提供更多支持,前三星电子半导体研究所所长Kim Kwang-gyo近期表示,韩国政府对半导体产业过于轻视,若不果断扩大投资和解决半导体产业问题,韩国半导体业会面临死路一条的局面。

三星电子已获得ASML今年EUV曝光机产能中的18台,这意味着,三星仅在EUV曝光机上就将投资超过4万亿韩元。一位业内人士表示,如果三星采购10台High-NA EUV曝光机,三星将花费超过5万亿韩元,政府有必要扩大支持,以提高韩国国家产业竞争力。

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